研发中心

本中心规划全息光学母版光刻机15台机位，均为自主研发。包括已经全面成熟使用的多功能光刻机，以及在研发中的真彩色光刻机动图光刻机等。同时还规划光刻拼版机三台，包括UV拼版机和自动拼版机。全面部署后，可以光刻各种光学效果如浮雕、光柱、透镜、光变、悬浮、真彩色、动图等。